SIGMAKOKI/西格玛光机自动偏光解析系统

SIGMAKOKI/西格玛光机自动偏光解析系统

基本构成例

这里介绍几种计测·解析的典型光学系统构成例。

我们可根据您的目的或使用要求更改结构和部件的型号，详情请*询。

在光源的后方设置偏光操作光学系统，可输出任意偏光状态的光束。

可选择直线偏光，圆偏光，椭圆偏光以及长短轴比例，转动方向等。

可用计算机动态控制。便于评估具有偏光依存性的样品，或在光路后部进行偏光补偿。

计测和解析入射光束偏光状态的装置。

可求入射偏光的斯托克斯参数S0〜S3。

任意偏光光源，样品保持机构，偏光测定装置的组合，可完成样品的特性的测定。

可构建透过型或反射型。

反射型即可测偏光特性，也可用作椭圆偏振光法（Elipsometry）。

可观测纹理，加工应变等，样品内部的应变的装置。

可把内部应变的分布和变化录像。

承接生产设备或测定装置，专用装置的开发制造主要部件选用样本上的标准产品，既经济，又容易保证质量和性能。
只需添置一些配合专用设备的零部件就可完成开发，效率高，容易实现个性化研发。

采用立式透过光学系统的偏光光学件特性评价系统

只需把被测样品放置到台架上就可完成测定。

可测定分光相位差，偏光分光特性，透过偏光比等。

SIGMAKOKI/西格玛光机自动偏光解析系统